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    在使用平面拋光機加工Ge片時，與之匹配的是一種含有MgO及強氧化劑兩種成分的拋光液。
    為何要使用這些成分，而且這二者又為何要同時存在，這對平面拋光機的加工性能有什么影響？小編不禁對這個問題發生好奇。
    這要從Ge片被平面拋光機被研磨時發生的化學反應開始說起。

    據有關報道，當體系中存在Ge時，由于電極反應，強氧化劑會將襯底表面的Ge氧化成氧化物，轉動的拋光布的機械摩擦可以將它除去。
    MgO在平面拋光機拋光過程中，主要起著研磨作用。由于Ge在常溫下空氣中穩定，也不被水所分解，鹽酸和稀硫酸不與它作用，強堿對它也不起作用，因為MgO在水中的溶解度很小，在水中加入MgO產生OH^¯離子也很難與Ge作用，化學反應幾乎未進行。
    所以當平面拋光機的機械拋光過程中不存在強氧化劑時，單獨使用MgO加H₂O拋光Ge片，此時純屬MgO與Ge的機械研磨作用，不僅去層速率極慢，甚至平面拋光機的拋光難以進行，表面產生嚴重劃道。
    反之，當體系中不存在Ge片，平面拋光機拋光速率極慢，此時，經過長時間拋光，得到的只是光亮感的桔皮狀表面。
    總之，當平面拋光機的拋光液既有MgO，又有強氧化劑時，其拋光速度快、成本低、表面無桔皮、無波紋、無劃道、無拉絲等宏觀缺陷，質量很好。
    該種拋光液，同樣也適用于鏡面拋光機、鋁合金拋光機等。