下载棋牌送彩金


深圳方達研磨服務熱線
如果你有任何問題歡迎你的咨詢

為什么平面拋光機加工Ge片時要同時加入MgO及強氧化劑

作者:spider 發表時間:2013-04-21 人氣:

    在使用平面拋光機加工Ge片時,與之匹配的是一種含有MgO及強氧化劑兩種成分的拋光液。
    為何要使用這些成分,而且這二者又為何要同時存在,這對平面拋光機的加工性能有什么影響?小編不禁對這個問題發生好奇。
    這要從Ge片被平面拋光機被研磨時發生的化學反應開始說起。
平面拋光機外觀
    據有關報道,當體系中存在Ge時,由于電極反應,強氧化劑會將襯底表面的Ge氧化成氧化物,轉動的拋光布的機械摩擦可以將它除去。
    MgO在平面拋光機拋光過程中,主要起著研磨作用。由于Ge在常溫下空氣中穩定,也不被水所分解,鹽酸和稀硫酸不與它作用,強堿對它也不起作用,因為MgO在水中的溶解度很小,在水中加入MgO產生OH¯離子也很難與Ge作用,化學反應幾乎未進行。
    所以當平面拋光機的機械拋光過程中不存在強氧化劑時,單獨使用MgO加H2O拋光Ge片,此時純屬MgO與Ge的機械研磨作用,不僅去層速率極慢,甚至平面拋光機的拋光難以進行,表面產生嚴重劃道。
    反之,當體系中不存在Ge片,平面拋光機拋光速率極慢,此時,經過長時間拋光,得到的只是光亮感的桔皮狀表面。
    總之,當平面拋光機的拋光液既有MgO,又有強氧化劑時,其拋光速度快、成本低、表面無桔皮、無波紋、無劃道、無拉絲等宏觀缺陷,質量很好。
    該種拋光液,同樣也適用于鏡面拋光機鋁合金拋光機等。