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長時間帶來高精度—α氧化鋁單晶片研磨初探

作者:admin 發表時間:2015-03-07 人氣:
 在光學及光電子設備中,α氧化鋁單晶片因為其高硬度、高熔點、良好的透光性及熱傳導性、優良的電絕緣性及穩定的化學性能,在光電子系統中得到了廣泛的應用。
當您需要研磨α氧化鋁單晶片時,可以采用機械拋光法、浮法拋光法、超精密拋光法以及機械化學拋光法等,這里采用的是錫盤拋光法。
為了充分了解拋光時間與拋光精度的對應關系,我們的實驗小組特別就此做了一個實驗,在溫度、壓力、濃度、主軸轉速及工件軸轉速等都相同的情況下,僅改變拋光的時間來測量工件的粗糙度,從而獲得拋光時間與表面性能的變化規律。經過前后多次的反復對比,我們終于發現,拋光的時間越長,工件的粗糙度越小,其表面的性能也就越好。
由此,從這次實驗結論中可以看出,在拋光α氧化鋁單晶片時,您的拋光盤若是錫盤,可以通過加長拋光時間來獲得更加良好的表面性能,不信的話,試試就知道了。
為了幫助廣大客戶更好地使用和維護研磨拋光設備,也為了獲得更好的機器性能,我們將堅持不懈,不斷做進一步的研究與探討。您若有什么需要或疑問,歡迎您與我們取得聯系。