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膠質硅拋光對工件加工的影響

作者:admin 發表時間:2014-08-23 人氣:
  使用膠質硅超微粒子,對工件表面進行拋光處理,其加工工件表面的粗糙度會對任何工件達到粗糙度0.002-0.003μm,其表面沒有任何的擦痕,使用腐蝕劑進行工件表面腐蝕沒有發現缺陷,這種平面研磨機進行化學研磨拋光的基本要素主要是使用微細的軟質磨料,進行固向的反應,軟質的磨粒與適當的研磨液混合,能夠在磨粒與被研磨拋光工件的接觸點附近,由于摩擦而產生高溫高壓現象,能夠在很短的時間的接觸過程中,產生固相反應,由于摩擦力能夠去除所生成的反應物,實現去除拋光。

  在干式軟式的磨料拋光過程匯總,由于磨料的表面活性的差異,其加工效率也會不同,但是由于這種膠質硅進行拋光表面活性大,加工效率很高,而在濕式加工中由于磨粒的吸水性的影響會是表面活性出現下降,接觸點的溫度很低,其加工效率較低。

  由于機械化學復合拋光作用,磨粒與拋光液之間在于工件進行接觸的表面上,由于高速摩擦作用而產生的高溫高壓現象,會在接觸點的地方產固相反應,容易被磨粒的機械去除,加工工件表面沒有殘留反應生成物,其表面的清潔度極高,加工變質層比較小。

文章作者:深圳市方達研磨技術有限公司
來源:平面研磨機平面拋光機研磨拋光機